CarboNex – Kurz, kürzer, BEUV

Mellingen, 19. August 2026

Wellenlängen von 13,5 nm sind von gestern – während anderswo noch über mehr Größe diskutiert wird, schrumpfen wir munter weiter auf 6,X nm. Darf ich vorstellen: BEUV, Beyond Extreme Ultraviolet Lithography.

In unserem neuen Gemeinschaftsprojekt CarboNex entwickeln wir gemeinsam mit der optiX fab GmbH und dem Fraunhofer IOF eine leistungsstarke und umweltfreundliche Optiktechnologie, die die nächste Generation der Chipfertigung antreiben könnte.

Unser Anteil dabei: optische Substrate so glatt zu polieren, dass selbst das Licht sie kaum als Hindernis wahrnimmt. Konkret heißt das: wir arbeiten an einer rms-Oberflächenrauheit von unter 0,15 nm.

Gefördert wird das Ganze vom Europäischen Fonds für regionale Entwicklung.