CarboNex – Substrate für den BEUV-Bereich

Vorhabenbeschreibung

Aufgrund der ständigen Nachfrage nach höherer Rechenleistung (z. B. für künstliche Intelligenz) werden immer kleinere Strukturen mit immer besserer lithographischer Auflösung gefordert. Ein Ansatz zur Erfüllung dieses Ziels besteht in der Nutzung kleinerer Wellenlängen im Lithographieprozess. Entsprechend sind neue Lösungen wie Beyond Extreme Ultraviolet Lithographie (BEUV) bei einer Wellenlänge von 6,X nm zu einem internationalen Forschungsschwerpunkt geworden.

Ziel des Verbundprojekts CarboNex ist die Erforschung und spätere Kommerzialisierung einer leistungsfähigen, umweltfreundlichen Optiktechnologie im Wellenlängenbereich um 6,X nm für Anwendungen in der BEUV-Lithographie. Im Mittelpunkt steht hierfür ein neuartiges Multilagenschichtsystem auf Basis von Kohlenstoff (C ) und Bor (B), das durch die Projektpartner OptixFab GmbH und Fraunhofer IOF realisiert werden soll und das bisherige Schichtsystem aus Lanthannitrid (LaN) und Bor (B) ablösen könnte.

Der Übergang zu immer kleineren Wellenlängen geht jedoch mit der Erhöhung des auftretenden Streulichts einher und führt damit zu einer Verringerung der nutzbaren optischen Leistung. Die Aufgabe der LAYERTEC im Projekt besteht deshalb in der Herstellung optischer Substrate mit extrem geringen hochfrequenten (HFSR) und mittelfrequenten (MFSR) Rauheiten (< 0,15 nm).