Bauteile für höhere Harmonische des Ti:Saphir Lasers

Bauteile für höhere Harmonische des Ti:Saphir Lasers

Die vierte und fünfte Harmonische des Ti:Saphir Lasers liefert fs-Pulse im DUV / VUV. Dies bietet eine Vielzahl an Möglichkeiten für Anwendungen in der Spektroskopie und den Materialwissenschaften. Optiken für diese sehr speziellen Geräte müssen auf hohe Reflektivität und niedrige Dispersion optimiert werden.

Umlenkspiegel und Separatoren für die vierte Harmonische

turning mirror for 200nmBild 1: Reflektivität (gemessen, a) und GDD Spektrum (berechnet, b) eines Umlenkspiegels für 200nm (AOI = 45°)
separator for the fourth harmonicBild 2: Reflektivität (a) und GDD Spektrum (b) eines Seperators für die vierte Harmonische längerer Wellenlängnenbereiche und der Grundwelle (AOI = 45°)

Bauteile für die fünfte Harmonische

turning mirror for 160nmBild 3: Reflektivität (gemessen, a) und GDD Spektrum (berechnet, b) eines Umlenkspiegels für 160nm (AOI = 45°)

Spezielle Bauteile

separator with high reflectivity in a small wavelengthBild 4: Reflektivität (a) und GDD Spektrum (b) eines Separators mit hoher Reflektivität in einem kleinen Wellenlängebereich in VIS und hoher Transmission für die dritte und vierte Harmonische des Ti:Saphir Lasers:
HRs(45°, 420nm) > 99% + Rp(45°, 200 + 270nm) < 3%

Eigenschaften von Femtosekunden UV Beschichtungen

  • Abhängig vom Wellenlängenbereich der Grundwelle können die im Datenblatt auf den Seiten 68-71 unseres Kataloges bzw. in Bauteile für die dritte Harmonische des Ti:Saphir Lasers, sowie auf dieser Seite beschrieben Beschichtungen für folgende Zentralwellenlängen verwendet werden:
    • Dritte Harmonische: 250 – 330 nm
    • Vierte Harmonische: 180 – 250 nm
    • Fünfte Harmonische: 150 – 180 nm
  • Die Bandbreiten der Beschichtungen werden in unten stehender Tabelle aufgeführt
  • Die Beschichtungen sind für breite Reflektionsbände, hohe Reflektivität und niedrige GDD optimiert
  • Unterschiedliche, vom Wellenlängenbereich abhängige Substrate und Beschichtungen; Bauteile für 220 nm und darunter bestehen aus Fluorid-Schichtsystemen auf CaF2 - Substraten
Bandbreiten hoher Reflektivität und niedriger GDD
BauteilWellenlängenbereichP-PolarisationS-Polarisation
R > 99 %, |GDD| < 20 fs2R > 99.5 %, |GDD| < 20 fs2
Umlenkspiegel dritte HarmonischeUV30 nm50 nm
Separator dritte HarmonischeUV30 nm50 nm
Umlenkspiegel für 2 WellenlängenUV15 nm26 nm
UV / VIS34 nm72 nm
Umlenkspiegel vierte HarmonischeUV5 nm (R > 93 %)15 nm (R > 97 %)
Umlenkspiegel fünfte HarmonischeUV4 nm (R > 90 %)12 nm (R > 97 %)