Die vierte und fünfte Harmonische des Ti:Saphir Lasers liefert fs-Pulse im DUV / VUV. Dies bietet eine Vielzahl an Möglichkeiten für Anwendungen in der Spektroskopie und den Materialwissenschaften. Optiken für diese sehr speziellen Geräte müssen auf hohe Reflektivität und niedrige Dispersion optimiert werden.

• Abhängig vom Wellenlängenbereich der Grundwelle können die auf dieser Seite beschriebenen Beschichtungen, sowie die Bauteile für die dritte Harmonische des Ti:Saphir Lasers, für folgende Zentralwellenlängen verwendet werden:
  • Dritte Harmonische: 250 – 330 nm
  • Vierte Harmonische: 180 – 250 nm
  • Fünfte Harmonische: 150 – 180 nm
• Die Bandbreiten der Beschichtungen werden in unten stehender Tabelle aufgeführt
• Die Beschichtungen sind für breite Reflektionsbände, hohe Reflektivität und niedrige GDD optimiert
• Unterschiedliche, vom Wellenlängenbereich abhängige Substrate und Beschichtungen; Bauteile für 220 nm und darunter bestehen aus Fluorid-Schichtsystemen auf CaF₂ - Substraten

Bandbreiten hoher Reflektivität und niedriger GDD

Bauteil	Wellenlängenbereich	P-Polarisation	S-Polarisation
		R > 99 %, |GDD| < 20 fs2	R > 99.5 %, |GDD| < 20 fs2
Umlenkspiegel dritte Harmonische	UV	30 nm	50 nm
Separator dritte Harmonische	UV	30 nm	50 nm
Umlenkspiegel für 2 Wellenlängen	UV	15 nm	26 nm
	UV / VIS	34 nm	72 nm
Umlenkspiegel vierte Harmonische	UV	5 nm (R > 93 %)	15 nm (R > 97 %)
Umlenkspiegel fünfte Harmonische	UV	4 nm (R > 90 %)	12 nm (R > 97 %)